European Inventor Award

INHALT

Ekstremna ultraljubičasta litografija za proizvodnju manjih i djelotvornijih mikročipova. Erik Loopstra i Vadim Banine, finalisti Nagrade za europskog izumitelja 2018. u kategoriji industrijskog izuma.
Nizozemski inženjer Erik Loopstra i nizozemsko-ruski fizičar Vadim Banine zaslužni su za ključne inovacije na području ekstremne ultraljubičaste litografije, nove generacije procesa proizvodnje kompjutorskih mikročipova koji će omogućiti stvaranje manjih, bržih i jačih čipova.
Ekstremna ultraljubičasta litografija oslanja se na visokoenergetske izvore laserske plazme koji generiraju svjetlo valne duljine 13,5 nanometara (u ekstremnom ultraljubičastom spektru). S pomoću toga svjetla upisuju se geometrijski uzorci u silikon na površini manjoj od 10 nanometara. Ova tehnologija zaštićena patentom koju je razvio nizozemski proizvođač poluvodičke opreme ASML omogućava proizvođačima čipova da stvore novu generaciju čipova koji će biti začetnici inovacija na području potrošačke elektronike, zdravlja, zabave, autonomne vožnje, robotike i umjetne inteligencije.